有哪些因素影響等離子去膠機的使用？

　　隨著科技的進步，等離子去膠機在現(xiàn)代工業(yè)上高速發(fā)展，原因也很簡單，選擇等離子去膠機是因為它操作簡單、工作效率高、低成本、環(huán)保且去膠后表面光潔。下面是由金鉑利萊小編為大家介紹等離子去膠機在使用中四大影響要素，希望能幫到大家。

　　一、調(diào)整合適的頻率：

　　頻率越高，氧越易電離構(gòu)成等離子體。頻率太高，以致電子振幅比其平均自由程還短，則電子與氣體分子磕碰概率反而減少，使電離率降低。通常常用頻率為13.56MHz及2.45GHZ。

　　二、調(diào)整合適功率：

　　關(guān)于必定量的氣體，功率大，等離子體中的的活性粒子密度也大，去膠速度也快；但當功率增大到必定值，反響所能耗費的活性離子到達飽滿，功率再大，去膠速度則無顯著添加。由于功率大，基片溫度高，所以應根據(jù)技術(shù)需求調(diào)理功率。

　　三、調(diào)整適合的真空度：

　　恰當?shù)恼婵斩龋墒闺娮舆\動的平均自由程變大，因而從電場取得的能量就大，有利電離。別的當氧氣流量必守時，真空度越高，則氧的相對份額就大，發(fā)生的活性粒子濃度也就大。但若真空度過高，活性粒子濃度反而會減小。

　　四、氧氣流量的調(diào)整：

　　氧氣流量大，活性粒子密度大，去膠速率加速；但流量太大，則離子的復合概率增大，電子運動的平均自由程縮短，電離強度反而降低。若反響室壓力不變，流量增大，則被抽出的氣體量也添加，其間尚沒參與反響的活性粒子抽出量也隨之添加，因而流量添加對去膠速率的影響也就不甚顯著。