真空等離子清洗機(jī)的應(yīng)用及原理

　　一、應(yīng)用領(lǐng)域

　　該設(shè)備主要用于半導(dǎo)體、涂層、光學(xué)、電子、航空航天等領(lǐng)域中不同材料表面的清洗。具體來(lái)說(shuō)，它可用于以下方面：

　　1、半導(dǎo)體制造業(yè)：半導(dǎo)體器件生產(chǎn)過(guò)程中需要頻繁進(jìn)行清洗，在傳統(tǒng)的清洗方法中難免會(huì)留下污染或殘留物。而真空等離子清洗機(jī)不僅能夠清除這些物質(zhì)，而且還能降低工作環(huán)境中的細(xì)菌和微生物數(shù)量，從而大大提高了半導(dǎo)體產(chǎn)品的質(zhì)量和穩(wěn)定性。

　　2、涂層行業(yè)：在涂層生產(chǎn)過(guò)程中，需要對(duì)底材進(jìn)行清洗，以確保涂層的附著力和光滑度。等離子清洗機(jī)不僅能有效地去除油脂、灰塵和其他污染物，而且還能防止細(xì)菌在制造過(guò)程中的污染。

　　3、光學(xué)制造業(yè)：光學(xué)產(chǎn)品如鏡片、透鏡等需要高精度、高質(zhì)量的表面處理，而真空等離子清洗機(jī)可有效地去除表面殘留物，減少在表面加工過(guò)程中產(chǎn)生的損傷，從而提高了光學(xué)產(chǎn)品的質(zhì)量。

　　4、航天航空工業(yè)：在航空航天領(lǐng)域，各種零部件如發(fā)動(dòng)機(jī)、制動(dòng)器等需要經(jīng)常進(jìn)行清洗。可以清除這些部件表面的污垢和油脂等，從而保證了它們的性能和壽命。
 

　　二、基本原理

　　真空等離子清洗機(jī)是利用等離子體發(fā)生器產(chǎn)生帶電粒子，通過(guò)激發(fā)表面物質(zhì)分子將其分解為小分子，從而實(shí)現(xiàn)清洗的目的。其主要原理如下：

　　1、等離子體發(fā)生器：等離子體是由氣體分子經(jīng)過(guò)電子轟擊而形成的帶電粒子的集合體。等離子體發(fā)生器通過(guò)高壓電場(chǎng)將氣體轉(zhuǎn)變?yōu)榈入x子體，然后在等離子體中產(chǎn)生不同的化學(xué)反應(yīng)，達(dá)到清洗效果。

　　2、氣體選擇：不同的材料需要不同的清洗氣體。例如，在半導(dǎo)體制造業(yè)中，氧氣和氬氣是常用的清洗氣體；而在涂層行業(yè)中，四氟化碳是經(jīng)常使用的清洗氣體。

　　3、清洗方式：主要有兩種清洗方式：一種是輝光放電清洗，即利用等離子體與表面物質(zhì)的作用力實(shí)現(xiàn)清洗效果；另一種是放電等離子清洗，即直接向表面物質(zhì)施加電弧或電暈放電，產(chǎn)生化學(xué)反應(yīng)來(lái)進(jìn)行清洗。
 

　　三、注意事項(xiàng)

　　在使用時(shí)，需要注意以下幾點(diǎn)：

　　1、選擇適當(dāng)?shù)臍怏w：不同的領(lǐng)域和材料需要使用不同的氣體，需要根據(jù)具體情況選擇適當(dāng)?shù)那逑礆怏w。

　　2、合理設(shè)置工藝參數(shù)：包括清洗時(shí)間、清洗氣體流量等，需要通過(guò)實(shí)驗(yàn)和測(cè)試確定合適的工藝參數(shù)。

　　3、安全操作：在工作時(shí)需要使用高壓電場(chǎng)，需要遵守相關(guān)安全操作規(guī)程，以免發(fā)生事故。

　　總之，真空等離子清洗機(jī)是現(xiàn)代清洗技術(shù)中一種十分重要的清洗方式。它不僅能夠清除表面污染物，而且還具有無(wú)殘留、無(wú)損傷等特點(diǎn)，因此在各行業(yè)中得到了廣泛應(yīng)用。