SPV-100晶圓等離子清洗機通過對工藝氣體施加電場使電離化為等離子體。等離子體的“活性”組分包括：離子、電子、原子、自由活性基團、激發態的核素（亞穩態）、光子等。等離子處理就是通過利用這些活性組分的性質來氧化、還原、裂解、交聯和聚合等物理和化學反應改變樣品表面性質，從而優化材料表面性能，實現清潔、改性、刻蝕等目的。

SPV-100真空等離子清洗機通過對工藝氣體施加電場使電離化為等離子體。等離子體的“活性”組分包括：離子、電子、原子、自由活性基團、激發態的核素（亞穩態）、光子等。等離子處理就是通過利用這些活性組分的性質來氧化、還原、裂解、交聯和聚合等物理和化學反應改變樣品表面性質，從而優化材料表面性能，實現清潔、改性、刻蝕等目的。

SPV-200真空等離子清洗機通過對工藝氣體施加電場使電離化為等離子體。等離子體的“活性”組分包括：離子、電子、原子、自由活性基團、激發態的核素（亞穩態）、光子等。等離子處理就是通過利用這些活性組分的性質來氧化、還原、裂解、交聯和聚合等物理和化學反應改變樣品表面性質，從而優化材料表面性能，實現清潔、改性、刻蝕等目的。